| 關 鍵 詞： |
專利侵害鑑定基準；先前技術阻卻；必要元件；必要技術；禁反言原則；逆均等論 |
| 中文摘要： |
鑑定人所為之「專利侵害鑑定報告」如何界定申請專利範圍以及侵權判斷應採取之基準為何，攸關專利權侵害訴訟之結果。因此當鑑定機構採「專利侵害鑑定要點」並接受法院的鑑定委託時，被告如何在鑑定前或解釋申請專利範圍前即決定該主張適用「逆均等論」或適用「禁反言或先前技術阻卻」來走鑑定流程，或者若被告未主張「禁反言或先前技術阻卻」，但基於解釋申請專利範圍之內部證據，鑑定機構是否得以主動要求被告或法院提供申請歷史檔案，尚有待觀察實務的發展。
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| 目 次： |
壹、前言
貳、解釋申請專利範圍之原則
參、現行侵害鑑定之爭議
一、公知事實對申請專利範圍之排除
二、適用全要件原則之鑑定比對
三、在獨立項中區分出「必要元件」為「必要技術」
四、在鑑定流程中未進行「禁反言原則」之審查
肆、結語
伍、參考資料
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| 相關法條： |
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