| 關 鍵 詞： |
設計專利；專利圖式；邊界線；專利保護範圍 |
| 中文摘要： |
在設計專利圖式中的虛線和實線所代表的意涵，就像是發明專利「說明書」所記載的限制條件，申請人可選擇設計專利請求保護的範圍，將設計中想請求保護的標的以實線在圖式中揭露，將不想請求的部分以虛線揭露之。本文以 In re Owens 一案中的邊界線，來說明設計專利圖式中，細微但相當重要的意義。
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| 目 次： |
一、前言
二、In re Owens 案件的事實背景
三、申請過程歷史檔案
四、MPEP 中與邊界線有關的規定
五、CAFC 的判決理由與理論依據
六、CAFC 對於延續申請案新增邊界線有不同的見解
七、結論
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