法源法律網-法學論著-法學期刊-理律新知110 年 11 月號 (2021.11)-他國註冊作為美國商標申請之基礎，取得商標註冊保護之先機

法學期刊

論著名稱：	他國註冊作為美國商標申請之基礎，取得商標註冊保護之先機文獻引用
編著譯者：	廖雍倫；高尹文；李仁傑
出版日期：	2021.11
刊登出處：	台灣／理律新知／110 年 11 月號／8-9 頁
頁　　數：	2	點閱次數：	294
下載點數：	8 點	銷售明細：
授權者：	理律法律事務所（授權者指定不分配權利金給作者）
標　　籤：

關鍵詞：	元宇宙；商標申請；他國註冊
中文摘要：	本文著墨於以他國註冊作為美國商標申請案之基礎，所可獲得程序上之便利與實質上之優點，並提示若干注意事項，以提供企業主商標布局策略之參考。
目　　次：	壹、前言貳、美國兼採商標使用主義與商標註冊主義，原則上需使用商標始能獲准註冊參、善用他國註冊作為申請基礎，取得商標註冊保護之先機肆、結論
相關法條：
相關判解：
相關函釋：
相關論著：

廖雍倫、高尹文、李仁傑，他國註冊作為美國商標申請之基礎，取得商標註冊保護之先機，理律新知，110 年 11 月號，8-9 頁，2021年11月。